，2.電解拋光。
1、化學(xué)拋光：
化學(xué)拋光時(shí)通過金屬在化學(xué)介質(zhì)中的氧化還原反應(yīng)而達(dá)到整平拋光的目的
。其優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)拋光與金屬的硬度、拋光面積與結(jié)構(gòu)形狀無關(guān)
，凡與拋光液接觸的部位均被拋光
，不須特殊復(fù)雜設(shè)備，操作簡(jiǎn)便
，較適合于復(fù)雜結(jié)構(gòu)鈦義齒支架的拋光
。但化學(xué)拋光的工藝參數(shù)較難控制，要求在不影響義齒精度的情況下能夠?qū)αx齒有良好的拋光效果
。較好的鈦化學(xué)拋光液是HF和HNO3按一定比例配制
，HF是還原劑
，能溶解鈦金屬，起到整平作用
，濃度<10%
，HNO3起氧化作用，防止鈦的溶解過度和吸氫
，同時(shí)可產(chǎn)生光亮作用
。鈦拋光液要求濃度高，溫度低
，拋光時(shí)間短（1～2min)
。
2、電解拋光：
又稱為電化學(xué)拋光或者陽(yáng)極溶解拋光
，由于鈦合金管的電導(dǎo)率較低
，氧化性能極強(qiáng)，采用有水酸性電解液如HF-H3PO4
、HF-H2SO4系電解液對(duì)鈦幾乎不能拋光
，施加外電壓后，鈦陽(yáng)極立刻發(fā)生氧化
，而使陽(yáng)極溶解不能進(jìn)行
。但采用無水氯化物電解液在低電壓下，對(duì)鈦有良好的拋光效果
，小型試件可得到鏡面拋光
，但對(duì)于復(fù)雜修復(fù)體仍不能達(dá)到完全拋光的目的，也許采用改變陰極形狀和附加陰極的方法能解決這一難題
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